| 分散机类型：乳化分散机 | 物料类型：固-液 | 适用物料：化学品 |
| 品牌：IKN | 应用领域：化工 | 型号：ERS2000 |
| 速度类别：无级变速 | 调速范围：10500r/min | 分散轮直径：115mm |
| 升降行程：100mm | 电机功率：22Kw | 产品类型：全新 |
| 变速方式：变速带变速 | 速度范围：1200rpm以上 | 罐容量：3000L |
| 外形尺寸（长*宽*高）：1-1-1mm | 整机重量：400Kg | 规格：20005 200010 200020 |
| 材质：316 |
纳米水性涂料乳化分散机,水性纳米涂料分散机水性涂料分散机，纳米涂料分散机，涂料分散机，凡是用水作溶剂或者作分散介质的涂料，都可称为水性涂料。水性涂料包括水溶性涂料、水稀释性涂料、水分散性涂料3种。水溶性涂料是以水溶性树脂为成膜物，以聚乙烯醇及其各种改性物为代表，除此之外还有除此之外还有水溶醇酸树脂、水溶环氧树脂及无机高分子水性树脂等。
纳米水性涂料乳化分散机,水性纳米涂料分散机水性涂料分散机，纳米涂料分散机，涂料分散机
由于纳米微粒的小尺寸效应、表面效应、***尺寸效应和宏观***隧道效应等使得它们在磁、光、电、敏感等方面呈现常规材料不具备的特性。因此纳米微粒在磁性材料、电子材料、光学材料、高致密度材料的烧结、催化、传感、陶瓷增韧等方面有广阔的应用前景。 一应般来说，纳米涂料必须满足两个条件：首先，涂料中至少有一相的粒径尺寸在1—100nm的粒径范围；其次，纳米相的存在使涂料的性能要有明显的提高或具有新的功能。
传统高速分散机的主要作用是将涂料研磨浆进行预混合。现代化涂料原材料中的颜料、填料都是超细化易分散的，加上润湿分散机的运用，许多涂料不必进行研磨，仅仅使用高速分散机就可以达到规定的细度。但是对于纳米涂料的生产，传统的高速分散机是无法到达要求的，细度的要求无法满足。
IKN纳米水性涂料乳化分散机机的难点是：粉体分散到液体里面，容易形成二级团聚体，会将原本纳米级的粒径变成大的团聚体，从而难以分散细化，影响最终产品性能。
上海IKN应对这种现状，研发并生产出型的研磨+分散设备，研磨和分散一体化的设备，先研磨将二级团聚体打开，再分散，从而还原原始的纳米粒径。
结合南昌某客户的案例，使用上海ikn CMSD2000系列研磨分散机设备对纳米涂料进行处理，研磨分散3遍，即可还原纳米级粒径，客户很是惊喜和认可。
机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验***工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
研磨分散机应用领域： 化学工业：油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛白粉,炭黑,纤维素，石墨烯，碳纳米管，富勒烯，电池浆,压裂液料,纤维,芳纶,氯纶,晴纶等。 食品工业：芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麦乳精、香精、各种饮料 花生酱、豆瓣酱、香菇酱、辣酱、酱虾酱，食用菌丝，蛋白粉 ，豆粕酶解等
|  | |
设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMSD 2000/4 | 400 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 | 1500 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。 | |||||
纳米水性涂料乳化分散机,水性纳米涂料分散机水性涂料分散机，纳米涂料分散机，涂料分散机
