| 品牌：IKN | 处理方式：粉碎 | 结构形式：立式 |
| 型号：CMD2000 | 适用物料：乳酸菌 | 应用领域：食品 |
| 粉碎能力：1000 | 出料粒度：1UM | 给料粒度：20 |
| 重量：45 | 规格：2000/5 2000/10 2000/20 2000/30 | 材质：316 |
乳酸菌胶体磨 ，菌藻类胶体磨 乳酸菌高速胶体磨是 比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上，研磨效果非常好，转速可以达到14000RPM。
乳酸菌是
乳酸菌胶体磨处理越小 吸收越好
粉碎的效果
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
2 胶体磨磨头头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
乳酸菌胶体磨的
由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验***工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
乳酸菌胶体磨的参数 型号
粉碎机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。 | |||||
乳酸菌胶体磨，乳酸菌粉碎机 藻类胶体磨
特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。咨询：13816150178
IKN金属涂料胶体磨，广东胶体磨，高剪切胶体磨 食品体磨与国内胶体磨的性能比较：
一、转速和剪切速率：
IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1
通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍
二、胶体磨头和间距：
IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，***速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。
间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工
国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
三、机械密封：
IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至***，可24小时不停运转
国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障***，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
四、清洗：
IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计***，立式结构符合流体原理，清洗更简便
国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，
通常情况，需要拆卸机器进行清洗
具体设备咨询：13816150178
