| 品牌：IKN | 处理方式：研磨 | 结构形式：立式 |
| 型号：CM2000 | 适用物料：医药 | 应用领域：医药 |
| 粉碎能力：1000 | 出料粒度：1UM | 给料粒度：100UM |
| 重量：45 | 规格：2000/5 2000/10 2000/20 2000/30 | 材质：316 |
口服混悬液胶体磨，口服混悬液研磨分散机是 比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上，研磨效果非常好，转速可以达到14000RPM。
口服混悬液 液体药剂中的***可以是固体、液体或气体，在一定条件下分别以分子或离子、胶粒、颗粒、液滴状态分散于液体分散媒（溶剂，下同）中组成分散体系。如分散相以分子或离子状态分散于液体分散媒中者称为溶液（真溶液），其中溶质分子量小的称为低分子溶液；溶质分子量大的（如蛋白质类）则称为高分子溶液。胶体溶液除了高分子溶液以外，还包括溶胶，它由多分子聚集体作为分散相的质点，分散在液体分散媒中。如果以固体颗粒或液滴分散于分散媒中，颗粒或液滴与分散媒之间有相界面，前者称为混悬液，后者称为乳浊液。
根据分散相粒子大小及分散情况的不同，将液体药剂分为溶液型、胶体溶液型、混悬液型、乳浊液型四类。按应用方法，液体药剂可分为内服、外用和注射三大类。包括多种剂型，内服的如合剂、溶液剂等；外用的如洗剂、搽剂、含漱剂、滴鼻剂等等。
口服混悬液一国的国内做法是采用胶体磨 3000转，由于 从而无法发挥材料的性能。造成这种情况的主要原因① 尚未对分散的作用有正确的认识．许多生产商并未意识到分散的重要性；② 不知道对最终产品的品质如何评价，
我们采用9000转胶体磨或者14000转胶体磨效果更好
应为
***速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
CMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,最小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
口服混悬液胶体磨
高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMS 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMS 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMS 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMS 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 37 | DN80/DN65 |
CMS 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMS 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。 | |||||
口服混悬液胶体磨，混悬液胶体磨
