| 品牌：IKN/依肯 | 处理方式：研磨 | 结构形式：立式 |
| 出料粒度：0.001 | 型号：CMD2000 | 应用领域：二氧化硅 |
| 粉碎能力：0-20000 | 给料粒度：20 | 适用物料：二氧化硅 |
| 重量：400 |
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转速可以达到14000RPM。此款研磨分散机比普通的分散机机的速度达到4-5倍以上，分散乳化均质研磨效果非常好。
产品说明：德国IKN制造，***，享誉全球。该系列产品真正CIP/SIP功能，符合美国3A 认证。机器加工实施严格的质量控制，各部件经久耐用，运行稳定。在诸多跨国公司赢得极高赞誉，如巴斯夫，拜尔，德固赛，邱博,杜邦，英威达，罗地亚，罗盖特，欧莱雅，宝洁，高露洁，雀巢，达能，喜力，GE，BP，SHELL,中石化,中石油,中科院,等世界公司。
二氧化硅研磨分散机
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验***工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
研磨分散机应用领域： 化学工业：油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛白粉,炭黑等颜料 染料 涂料 油漆 塑料 树脂 油墨 糊料 浆料 热熔胶 阻燃剂 胶粘剂 整理剂 表面活性剂 均染剂防粘剂 消泡剂 光亮剂 橡胶助剂 塑料助剂 染料助剂 絮凝剂 混凝剂 表面活性剂 溶剂 硅油乳化 树脂乳化 碳黑分散 硬脂酸分散 硬脂酸钙 硬脂酸锌 二氧化钛 钛白粉 二氧化硅 纳米材料分散 。 |  | |
设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器
胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 2000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 6000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。 | |||||
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二氧化硅研磨分散上海依肯机械
