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供应碳黑研磨分散设备

供应碳黑研磨分散设备

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  • 分散机,研磨分散机,乳化机,胶体磨

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  • 地   址:
    上海 上海 松江区 上海市松江区陈春公路700号
品牌:IKN/依肯处理方式:研磨结构形式:立式
出料粒度:0.001型号:CMD2000应用领域:碳黑
粉碎能力:0-20000给料粒度:20适用物料:碳黑
重量:400

供应碳黑研磨分散设备详细介绍

碳黑研磨分散设备,碳黑研磨分散机,碳黑分散机设备  

转速可以达到14000RPM。此款研磨分散机比普通的分散机机的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好。

 

 

产品说明:德国IKN制造,***,享誉全球。该系列产品真正CIP/SIP功能,符合美国3A 认证。机器加工实施严格的质量控制,各部件经久耐用,运行稳定。在诸多跨国公司赢得极高赞誉,如巴斯夫,拜尔,德固赛,邱博,杜邦,英威达,罗地亚,罗盖特,欧莱雅,宝洁,高露洁,雀巢,达能,喜力,GE,BP,SHELL,中石化,中石油,中科院,等世界公司。




碳黑研磨分散设备的特点 

众所周知,炭黑是最难分散的颜料之一,因此炭黑比任何其它颜料更需要***分散在载体中。虽然几乎所有炭黑用户都或多或少地掌握一些有效分散炭黑的技巧,但对炭黑分散过程和机理的了解就显得相对薄弱,所以有必要在此对炭黑的分散过程和机理做一简要描述。
  (一)、炭黑颜料的分散过程和机理
  炭黑的分散过程是物理过程,在这个总过程中还包括许多独立的子过程。炭黑在另一种介质中被分散,实际就意味着炭黑粉末中的附聚物被破坏为较小粒子,并同时被介质所润湿。炭黑的分散过程也伴随有炭黑粒子的随机均匀分布过程,如果介质粘度较低,则已分散的炭黑粒子就会由于粒子间的吸引力而容易聚集,即所谓的颜料粒子再附聚作用。这种作用会降低炭黑的着色强度,为防止再附聚作用的发生,必须使炭黑分散状态稳定化。
  炭黑的分散过程可以分为以下四个阶段:
  1、破碎:由于商品级炭黑颜料的通常细度(45μm)远远不符合下游领域的最终要求,所以在使用炭黑时必须对炭黑进行破碎分散操作,也只有将炭黑破碎分散到一定细度范围时,才能使炭黑的着色性能或其它所需要的性能充分发挥出来。例如,发生在挤出机、捏合机、三辊机、密炼机、高搅机、球磨机、砂磨机等中的操作过程均是颜料的破碎。做为颜料的特性,炭黑的破碎程度同样与自身粒子的坚牢度有关。
  2、 润湿:自由炭黑粒子表面与周围介质的相互作用是炭黑被润湿的重要因素。炭黑润湿的能量关系可用热力学定律来解释,其中炭黑表面张力和表面能是润湿热的重要辅助参数,也可以从动力学角度描述炭黑粉末和附聚物的润湿过程。润湿时间不但与炭黑粉末的孔隙及几何结构有关,还随介质粘度提高而增加,并随润湿张力增大而减少。在实用条件下,升高温度可以加速润湿过程,但温度升高(粘度降低)又会导致剪切力(破碎作用)降低。润湿体积可作为炭黑孔体积或填充密度的量度,它与炭黑的相对着色强度密切相关,因此间接与炭黑在最终制品中分散质量有关。所以,在实际操作中为了提高炭黑的分散性,往往在介质中掺入了低分子量的添加剂(如增朔剂或粘度促进剂等)
  3、分布:通过提高加工温度和降低体系粘度,使体系处于湍流条件下;以及延长炭黑在加工设备内的停留时间;可以使被润湿的炭黑粒子达到分布。但是,在实际操作中,延长停留时间将受到产量要求的限制。因此,对于塑料行业,通常在注朔机和挤出机中安装鱼雷头、多孔板、剪切部件以及加设捏合段和采取其它设计措施,以提高破碎作用和延长停留时间。
  4、内聚力:由于炭黑粒子之间存在吸引力(偶极、氢键和静电力),因此必须依靠外界能量来克服吸引力,才能达到分散目的。炭黑的分散性和它的粒度分布有密切关系,粒度小的炭黑具有较大的比表面积,并且存在热力学上的不稳定性,从而容易产生再附聚作用。在实际操作中,添加分散剂涂覆在炭黑粒子表面,从而降低炭黑粒子之间的内聚力,有助于避免炭黑分散操作困难。




碳黑研磨分散设备 

研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验***工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。 

 

研磨分散机应用领域:

化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛白粉,炭黑等。 
日用化工:牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、***化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
医药工业:各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮等。 
建筑工业:各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
其它工业:塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料等行业优质环保的生产需要 。 

胶体磨磨头CM2000胶体磨

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器 

胶体磨 

流量*

输出 

线速度 

功率 

入口/出口连接 

类型 

l/h

rpm

m/s

kW

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

2000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到允许量的10%。 

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和最终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

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